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삼성전자, 6.5조 투입 EUV 생산라인 착공


글로벌 고객과 7나노 파운드리 협력 지속 확대

[아이뉴스24 강민경 기자] 삼성전자가 극자외선(EUV) 노광장비 생산라인을 짓는다. 초기 투자 규모는 건설 비용을 포함해 2020년까지 60억달러(약 6조5천억원)다.

삼성전자는 23일 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 열었다.

이번에 착공하는 화성 EUV라인은 내년 하반기에 완공된다. 2020년에는 시험생산을 거쳐 본격 가동된다. 이곳은 7나노 이하의 EUV 공정을 활용한 차세대 반도체 칩 생산기지가 될 전망이다.

이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV장비가 처음 도입된다. 삼성전자는 이 공장이 향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 예상했다.

반도체 업계에서는 최근 한 자릿수 나노 단위까지 미세화가 진행되면서 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 불가피해졌다.

EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어, 생산성도 획기적으로 높일 수 있다는 게 삼성전자의 설명이다.

삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일·서버·네트워크·HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도하겠다고 밝혔다.

김기남 삼성전자 DS부문장(사장)은 기념사를 통해 "이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이라며 "삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것"이라고 말했다.

강민경기자 spotlight@inews24.com






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